UV光催化除臭净化装置

设备概述:

     UV光催化除臭净化装置是利用特制的高能UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯等的分子键。利用高臭氧分解空气中的氧分子产生游离氧(即活性氧),因游离氧所携正负电子不平衡,所以需要与氧分子结合,进而产生臭氧,使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成低分子无害或低害的化合物,如CO2、H2O等。UV+O2—活性氧(O+O2—臭氧)。利用特制的催化剂进行氧化还原反应,运用高能UV紫外线光束、臭氧及催化剂对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质降解转化成低分子无害或低害的化合物、水和二氧化碳,达到除臭及杀灭有害细菌的目的。




工艺流程:




设备特点:

     (1)光催化氧化可在常温将空气、水和土壤中有机污染物氧化成无毒无害的物质。而传统的高温焚烧技术则需要在高温下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化氧化方法亦需要几百度的高温。 

     (2)它直接将空气中的有机污染物,氧化成无毒无害的物质,不留任何无二次污染,目前广泛采用活性炭吸附法不分解污染物,只是将污染源转移。 

     (3)光催化可利用太阳光作为能源来活化光催化剂,驱动氧化一还原反应,而且光催化剂在反应过程中并不消耗。从能源角度而言,这一特征使光催化技术更具魅力。 

     (4)大量研究表明,半导体光催化具有氧化性强的特点,对臭氧难以氧化的某些有机物如三氯甲烷、四氯化碳、六氯苯、都能有效地加以分解,所以难以降解的有机物具有特别意义,光催化的有效氧化剂是羟基自由基(OH),OH的氧化性高于常见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。 

     (5)光催化对从烃到羧酸的种类众多有机物有效,没过环保署公布的九大类14中污染物均被证实可通过光催化得到治理,即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有较佳的去除效果,一般经过持续反应可达到净化的目的。 

     (6)催化剂的寿命是无限长 。 


应用领域:

     (1)化工、喷漆、涂装、电子、冶金、电镀、纺织(化纤)、食品、机械制造、实验室、五金、仪表、塑料、电子等行业的生产过程中所产生的工业废气、市政工程,炼油,印刷,涂装,喷漆,冶金,化肥,造纸,服装,医药,香精香料等行业。